나노임프린트기술 개발 `가속`

반도체·LCD 공정 혁신의 주요 수단으로 나노임프린트 기술이 부각되면서 관련 기술개발 및 상용화가 가속화되고 있다.

31일 관련업계에 따르면 지금까지 디스플레이용 필름이나 바이오칩 등을 중심으로 수요가 발생한 나노임프린트 기술은 앞으로 고집적화와 비용절감에 적극적인 반도체·LCD 공정을 중심으로 빠르게 영역을 확대할 것으로 보인다. 이에따라 관련기술 및 장비 개발 연구가 활발히 이루어지면서 미국·유럽·일본 등에 대한 기술 의존도도 크게 줄어들 것으로 기대된다.

　동진쎄미켐(대표 이부섭)·테크노세미켐(대표 정지완) 등은 초저가 LCD 생산 프로젝트의 일환으로 나노임프린트용 레진 등 화학 소재의 개발을 추진, 2∼3년 안에 상용화한다는 계획이다.

LG전자(대표 김쌍수)는 나노임프린트 기술을 프로젝션TV용 편광필름 등 디스플레이 소재에 적용했으며 LG필립스LCD는 나노임프린트로 TFT 패턴을 형성사는 기술을 개발 중이다.

관련 장비 및 기반 시설도 늘고 있다.

　벤처기업인 NND(대표 배종서)는 50㎚ 이하의 패턴을 형성할 수 있는 나노임프린트 장비를 내놨다. MEMS 파운드리 업체인 제이엠엘(대표 심용진)은 나노임프린트 장비를 갖추고 나노 소자를 만드는 중소기업들의 생산을 지원하고 있으며 나노종합팹센터도 관련 장비를 도입했다.

업계의 한 관계자는 “일본 등에선 이미 나노 소자·바이오칩 등의 개발에 나노임프린트 기술을 적극 도입하고 있다”며 “반도체·LCD 공정용 나노임프린트 기술이 아직 완성되진 않았지만 고집적화와 비용 절감 요구가 높아지면서 빠르게 기술 발전이 이뤄질 것”이라고 예측했다.

한세희기자@전자신문, hahn@

◇나노임프린트란=노광 과정 없이 나노급 소자의 미세 패턴을 찍어내는 기술로 사진 현상 방식의 미세화 한계점을 극복할 수 있다. 일대일 근접 마스크를 통해 극자외선에 노출되면 굳어지는 중합체를 이용해 탬플릿의 패턴을 형성해 가는 원리다. 차세대 반도체 및 평판디스플레이 회로 형성에 나노임프린트 기술을 활용하면 100㎚급인 미세 공정을 10㎚급까지 향상시킬 수 있다.

사진: 나노 크기의 스템핑을 통해 소자를 형성할 수 있는 나노임프린트 기술이 LCD·반도체 등의 공정 혁신 기술로 주목받고 있다.