반도체 노광 광원 공급 활발

국내 반도체업체의 투자 확대에 따라 노광장비용 광원 공급장치 시장도 덩달아 활기를 띠면서 노광 광원업체인 미국 사이머사와 일본 고마쓰사의 경쟁이 치열해지고 있다.

레이저 공급장치는 설계 회로를 웨이퍼에 투사하는 노광장비(DUV용 스테퍼)에 부착, 액시머 레이저를 발생케 하는 필수적인 장치로 두 회사는 새로운 기술을 적용한 노광장비용 레이저 공급장치를 내놓고 시장선점에 나서고 있는 것.

싸이머코리아(대표 팽재원 http://www.cymer.com)는 최근 DUV(Deep Ultra Violet) 노광 공용 레이저 공급장치(모델명 ELS-6000)를 내놓고 선두 굳히기에 나섰다. 「ELS-6000」은 248㎚ 파장과 펄스 반복률 2㎑의 상태에서 20W의 출력을 제공한다.

싸이머는 또 2001년초 상용화를 목표로 193㎚ 광원에 펄스 반복률 4㎑, 출력파워 20W의 신제품 「ELS-6020A」를 개발중이며 차세대 노광기술인 F₂분자 레이저(157㎚)와 고밀도의 플라즈마 집중기술을 이용한 135㎚ 광원공급장치의 개발에도 착수했다.

이에 맞서 후발업체인 일본의 고마쓰사는 최근 한국 총판점인 미산인터내셔날(대표 박상민 http://www.misanltd.co.kr)을 앞세워 불화크립톤(KrF) 액시머 레이저 공급장치(모델명 G21K)를 출시했다.

「G21K」는 고감도 감광제에 대응할 수 있으며 레이저 조사량의 정확도를 기존의 ±0.4 % 이하에서 ±0.3 % 이하로 개선했다.

고마쓰는 특히 차세대 엑시머 레이저인 2㎑급의 불화아르곤(ArF) 레이저 공급장치(모델명 G20A)를 개발, 올 상반기중 양산에 들어가 한국시장에도 공급할 예정이며 차세대 제품인 F₂분자 레이저의 개발경쟁에도 뛰어들었다.

팽재원 싸이머코리아 사장은 『전세계 D램 생산업체들은 KrF액시머 레이저를 0.13㎛ 회로공정에도 사용할 것이며 193㎚의 발진파장을 갖는 ArF액시머 레이저는 차세대 반도체 양산에 적용될 것』이라고 전망했다.

<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>