`나노임프린트 기술`시대 열린다

나노 크기의 스템핑을 통해 복잡한 노광 과정 없이 경제적으로 나노 소자 패턴을 형성할 수 있는 ‘나노임프린트리소그라피’(NIL) 기술을 활용하는 시대가 열리고 있다.

　나노임프린트 기술을 활용하면 현재 100㎚급인 미세공정이 10㎚급으로 향상돼 차세대 반도체 분야의 기술 발전이 촉진될 것으로 기대된다.

　 NIL이란 일대일 근접 마스크를 통해 극자외선에 노출시키면 굳어지는 중합체를 이용해 탬플릿의 패턴을 만드는 기술로 현재 사진 현상 방식의 미세화 한계점을 극복, 도장을 찍듯이 간단하게 저비용으로 나노구조물을 형성할 수 있다. 특히 차세대 반도체 및 평판디스플레이용 회로 형성 기술로 주목받고 있다.

31일 관련 업계에 따르면 LG전자가 나노임프린트 기술을 적용한 편광필름 패턴 형성·정밀 광통신 소자 개발 등을 진행 중이며 벤처 기업인 NND가 나노임프린트 장비를 개발, 본격 영업에 들어갔다. 또 나노소자특화팹센터도 최근 관련 장비를 도입, 국내 업체들을 대상으로 지원에 나설 예정이다.

　LG전자(대표 김쌍수)는 현재 프로젝션TV용 50㎚급 편광필름의 패턴 형성에 나노임프린트 기술을 적용하고 있으며 앞으로 비메모리 반도체 등으로 영역을 확대할 계획이다. 또 초미세 패턴 광소자 개발을 위해 나노임프린트 기술을 연구 중이며 향후 광학기기, 나노 디바이스 등을 개발한다는 목표다.

NND(대표 배종서)는 50㎚ 이하의 패턴을 형성할 수 있는 임프린트 장비 ‘나노시스610’의 판매에 들어가 몰리큘러임프린트(MII)·나노넥스·오브듀캣 등 미국·유럽 기업들이 장악한 임프린트 장비 시장에 도전장을 던졌다. 이 제품은 압력용기 방식을 채택, 임프린팅 후 수지잔류층을 최소화했으며 가격도 외산 제품의 절반 이하에 불과하다고 회사측은 설명했다.

이밖에 나노메카트로닉스사업단도 나노임프린트 장비를 개발 중이며 나노종합팹센터도 한국기계연구원·ETRI·삼성종합기술원 등 국내 49개 나노기술개발기관의 수요에 부응, 나노임프린트 장비를 도입했다.

　업계의 한 관계자는 “나노임프린트 기술을 쓰면 나노 노광 공정에 비해 장비 구축비가 10분의 1 수준으로 줄어든다”며 “상용화 적용이 가시화될 2006년경 시장이 본격 형성될 것”이라고 말했다.

한세희기자@전자신문, hahn@