美 출원특허 심사 빨라진다

　앞으로 국내 출원인의 미국 특허출원이 더 편리해지고, 심사도 신속하게 받을 수 있게 된다.

특허청은 한국과 미국 두 나라에 공통으로 신청된 특허출원 가운데 어느 한 국가에서 ‘특허가능’ 심사판정을 받으면 상대편 나라에서 해당 특허출원을 다른 출원보다 먼저 심사하는 ‘한·미 특허심사 하이웨이’제도를 이달 28일부터 시범실시한다고 13일 밝혔다.

이에 따라 내국인은 국내 특허출원 심사 결과가 나오는 10개월 뒤 미국에 특허심사 하이웨이 신청을 할 수 있게 되며, 이르면 3개월에서 늦어도 12개월 내 미국에서 심사를 받을 수 있게 된다. 미국에서 일반 출원 심사기간이 평균 25개월인 점을 감안하면 최소 13개월 빨리 심사를 받게 되는 것이다.

시범실시 기간은 내년 1월 28일까지 1년간이며, 이후 양국 특허청은 전면실시 여부를 확정할 예정이다.

현재까지 미국과 특허 하이웨이 협약을 맺은 나라는 일본과 영국뿐이며, 한국이 전면시행에 들어갈 경우 세 번째 나라가 된다.

이 제도를 이용하기 위해서는 출원인이 한국 특허청의 특허가 가능하다는 판단을 내린 특허의 내용, 심사관련 통지서, 영어번역문 등을 미국 특허청에 제출하면 된다.

문찬두 특허청 전기전자심사본부장은 “이번 특허심사 하이웨이 시범 실시는 미국에서 우리나라의 특허심사 품질을 높이 평가하고 있다는 반증”이라면서 “미국에서의 특허기술 사업화 및 특허분쟁에 효과적으로 대응할 수 있게 됐다”고 말했다.

대전=신선미기자@전자신문,smshin@