서울대, 극미세 3D 패턴 정밀측정기술 개발

　대면적 TFT LCD의 극미세 3차원 패턴을 나노급(nm) 정밀도로 제조공정(인라인) 안에서 측정할 수 있는 세계 수준의 첨단 광학 측정기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다. 이로써 디스플레이 강국인 우리나라의 대면적 TFT LCD 제조기술 및 측정정비 산업의 대외경쟁력 강화가 기대된다.

　서울대 마이크로 열시스템연구센터 박희재 교수(기계항공공학부)팀은 고성능 간섭광학계 시스템, 고강성 나노미터 구동 시스템, 투명 박막 패턴 측정 알고리듬 등 핵심 설계 및 제조기술을 바탕으로 최근 극미세 3차원 패턴 정밀측정기술을 개발, 상용화하는 데 성공했다고 13일 밝혔다.

　박 교수는 “현재 정밀도, 측정 성능, 인라인 측정기능 등 여러 면에서 미국·일본 등 선진국보다 앞선 기술”이라며 “이미 한국, 미국, 일본 등에 관련 요소기술을 특허출원한 데 이어 서울대 실험실 1호 벤처인 에스엔유프리시젼에 기술 이전, 올해만도 약 250억원의 수입대체 효과가 기대되며 약 900만달러의 수출 실적이 예상된다”고 설명했다.

　연구팀이 개발한 기술은 비접촉식 광학 방식으로 TFT LCD의 대면적화에 따라 화질과 수율에 직접적인 영향을 주는 포토스페이서(photo spacer)를 비롯한 미세한 3차원 패턴을 인라인에서 나노(10억분의 1m)단위까지 초정밀하게 측정할 수 있는 게 특징이다.

　그동안 LCD업체들은 기존 접촉식 측정기술로는 정밀도가 떨어지고 접촉에 따른 패널의 손상 그리고 느린 측정 속도에 따른 기술적인 한계 등으로 미세 패턴의 정밀도 및 수율 저하 등의 문제점들이 나타나 인라인 측정기술의 상용화를 추진해왔다.　연구팀은 “앞으로도 지속적인 기술개발을 통해 다양한 측정기술을 개발, 이 분야에 관한한 세계 1등의 기술 경쟁력을 지속적으로 확보, 세계 시장을 석권할 계획”이라고 자신감을 보였다.

　<이중배기자 jblee@etnews.co.kr>