자이스코리아가 오는 1월 31일부터 사흘간 서울 코엑스에서 열리는 세미콘코리아에서 극자외선(EUV) 포토마스크 결함을 평가하는 '자이스 AIMS EUV'와 '3D 단층촬영 계측 솔루션' 등을 선보인다고 18일 밝혔다.
자이스그룹은 설립자인 칼 자이스의 현미경부터 시작, 175년 이상의 역사를 가진 독일 광학기업이다. 심자외선(DUV)·극자외선(EUV) 노광 공정 핵심 요소인 광학렌즈 모듈 및 포토마스크 솔루션, 공정 제어, 소재·패키징 3D 분석, 측정 등 다양한 포트폴리오를 보유하고 있다. ASML의 전략적 파트너다.
자이스그룹 기술 로드맵 시니어 디렉터인 하이코 펠트만 박사가 연사로 참석, '자이스 EUV 광학기술'을 주제로 발표한다. 자이스의 광학 기술력이 어떻게 EUV 생산성과 해상도 향상에 기여하는지 소개한다. 해당 발표에서는 0.33 NA(개구수)의 1세대 EUV 광학 시스템과 차세대 EUV 장비(하이 NA)에 적용된 0.55 NA 광학 모듈 내용도 공유한다.
권동준 기자 djkwon@etnews.com
