본지, 日 경제산업성 '포토레지스트 수출 규제 품목 리스트' 분석
일본 정부가 현재 반도체 제조에 사용하는 기술뿐만 아니라 차세대 반도체 기술 연구개발(R&D)에 필요한 소재까지 수출 규제 대상에 포함시킨 것으로 확인됐다. 한국 반도체 산업 압박뿐만 아니라 미래 R&D에도 차질이 나도록 하겠다는 의도로 풀이된다. 일본 정부가 한국 반도체 산업의 숨통을 조이기 위해 치밀하게 준비한 것으로 분석된다.
4일 전자신문은 일본 경제산업성이 낸 '포토레지스트 수출 규제 품목 리스트'를 입수하고 전문가들에게 자문했다. 그 결과 국내 반도체 업계에 타격을 줄 수 있는 핵심 포토레지스트들이 이번 규제 대상에 오른 것으로 확인됐다.
리스트에 오른 포토레지스트 종류는 네 가지다. △15~193나노(㎚) 파장의 빛에서 사용하는 포지티브형 레지스트 △1~15㎚ 파장 빛에서 사용하는 레지스트 △전자 빔 또는 이온 빔용 레지스트 △임프린트리소그래피 장치에 사용하는 레지스트다.
전문가들에 따르면 15~193㎚ 레지스트는 불화아르곤(ArF) 광원을 사용하는 반도체 레지스트를 뜻한다. 1~15㎚ 미만은 극자외선(EUV)용 레지스트다.
모두 삼성전자와 SK하이닉스가 현재 반도체 제조에 사용하고 있는 기술이다. 양사는 불화아르곤, EUV에 필요한 포토레지스트를 일본 업체에서 공급받고 있다.
일본 정부가 이들 포토레지스트의 수출을 제한하게 되면 삼성전자와 SK하이닉스 반도체 생산에 미치는 차질은 불가피하다.
특히 일본 정부가 △전자빔 또는 이온빔용 레지스트 △임프린트리소그래피 장치에 사용하는 레지스트를 대상에 올린 것으로 확인돼 주목된다.
전자빔·이온빔은 초미세 공정을 구현할 차세대 광원으로 주목받고 있는 기술이다. EUV가 할 수 없는 1㎚ 이하를 구현하는 광원으로 알려져 있는 가운데 차세대 반도체 R&D도 압박하겠다는 의도가 엿보인다.
권기청 광운대 교수는 일본 정부의 규제 자료를 보고 “국내 소자업체나 장비업체, 학계와 연구기관에서 사용하고 있는 모든 포토레지스트를 차단한 것이나 다름없다”고 진단했다.
포토레지스트는 반도체 생산에 필수 소재다. 웨이퍼에 회로를 인쇄하는 노광 공정에 사용된다. 다른 소재보다도 수입 의존도가 높아 일본 정부의 수출 규제에 따른 파장이 가장 클 것으로 예상되는 품목으로 꼽혔다.
일본 정부는 우리나라 대법원의 일제 강제징용 손해배상 판결에 대한 보복으로 예고한 포토레지스트, 불화수소, 불화폴리이미드 3개 품목에 대한 수출 규제 강화를 4일 단행했다. 이에 앞서 일본 정부는 지난 1일 이 같은 제재 조치를 공식화했다.
윤건일 전자/부품 전문기자 benyun@etnews.com, 강해령기자 kang@etnews.com, 윤희석 유통 전문기자 pioneer@etnews.com
