반도체 노광장비 기업 ASML은 미국 주요 반도체 제조사와 최소 15대 극자외선(EUV) 노광장비 공급 계약을 맺었다고 23일 밝혔다.
EUV는 10나노 이하 미세공정을 실현할 수 있는 첨단 기술로 꼽힌다. 그동안 주요 반도체 제조사와 파운드리 기업이 EUV 장비 한두 대를 도입했으나 주로 연구개발 용도로 사용했다. 이번 계약은 단일 기업 물량으로는 최대 규모로 실제 양산 라인에 적용될 가능성이 높다.
이 제조사는 반도체 개발과 차세대 제조 공정을 적용한 반도체를 시범 생산하기 위해 EUV 장비 도입을 결정했다. 기존 이머전(액침) 불화아르곤 노광기로 회로 패턴을 여러번 형성하는 패터닝 기술을 적용했으나 EUV 장비를 도입하면 패터닝, 증착, 식각에 드는 시간과 비용을 줄이면서 더 미세한 회로를 그릴 수 있다.
전체 공급량 중 먼저 2대 장비(NXE:3350B)를 연말까지 생산 라인에 도입해 반도체 제조에 사용할 예정이다.
피터 베닝크 ASML CEO는 “이제 EUV 노광 시스템은 양산 단계에 들어섰으며 장기적인 EUV 사업 계획과 생태계 시스템을 갖추는 준비를 순조롭게 진행하고 있다”고 말했다.
배옥진기자 withok@etnews.com
