[특집-SEMICON WEST 98] 주요업체 출품작.. i라인용 리소그래피 장비

ASML "i라인용 리소그래피 장비"

네덜란드 스테퍼업체인 ASML은 최신 개발한 스텝&스캔 방식 i라인용 리소그래피 장비인 「PAS 5500/400」을 이번 전시회에 선보였다.

0.28미크론 이하의 높은 해상능력을 지닌 이 제품은 현재 주종을 이루고 있는 i라인용 노광장비로 시간당 96장의 웨이퍼를 처리할 수 있는 초고속 제품이다.

또한 같은 회로를 한장씩 여러번 찍어내던 기존의 스텝 방식과는 달리 복잡한 회로를 하나씩 그려나가는 스텝&스캔 방식을 채택함으로써 초미세 회로 공정에 적용 가능하고 26×33㎜의 넓은 필드를 제공한다.

이와 함께 ASML은 회로선폭 0.22미크론 수준의 DUV용 스텝&스캔시스템인 「PAS 5500/500」제품도 출품했다.

기가D램 또는 첨단 마이크로프로세서 제조에 대응한 이 제품은 제4세대 레이저 빔 공급 시스템과 특수 광학기술을 채택, 고가의 렌즈를 사용하지 않고도 웨이퍼 위에 투사되는 필드 크기를 최대화했으며 레티클 및 웨이퍼 스테이지를 고속 작동시킴으로써 시간당 96장의 웨이퍼를 처리할 수 있는 고성능 리소그래피 장비다.