LG화학, 포토레지스트(PR) 시장 진출

LG화학(대표 성재갑)이 반도체 제조용 핵심 재료인 포토레지스트(PR)시장에 본격 진출한다.

석유화학업체인 이 회사는 최근 미국 롬앤하스社의 포토레지스트 전문 자회사인 시플리社와 합작으로 국내에 PR 생산 공장을 건설, 내년 하반기부터 본격적인 제품 생산에 착수할 계획이라고 14일 밝혔다.

이를 위해 이 회사는 13일 미국 롬앤하스사와 합작조인식을 갖고 총 3천만달러를 공동 투자, PR 공장 건설 및 제품개발을 추진할 「LG-시플리사」를 합작 설립키로 최종 합의 했다.

LG화학과 롬앤하스사가 각각 49 대 51의 비율로 합작 설립하는 「LG-시플리」는 오는 99년 하반기까지 국내 공장 건설을 완료하고 64MD램급 이상의 고집적 반도체 제조에 사용되는 i라인용 제품과 최근 그 수요가 급증하고 있는 DUV용 포토레지스트를 주력 생산할 계획이다.

포토레지스트는 설계된 반도체 회로를 웨이퍼에 전사시킬 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광 공정용 감광재료로 연간 국내 수요만도 2천억원 규모 정도로 추정되는 가운데 G라인용과 같은 저급제품을 제외한 80% 이상 물량이 수입 사용되고 있다.

<주상돈 기자>