반도체 디스플레이 분야 첨단 기술도 테크비즈코리아 2026에서 살펴보고 이전을 논의할 수 있다.
한국에너지연구원이 개발한 '반도체 및 디스플레이 제조 공정 중 배출되는 고 지구온난화지수(GWP) 온실가스와 미세먼지 동시 처리할 수 있는 통합 처리기술'이 그 주인공이다.
그동안 불화온실가스(F-가스), 이산화질소(N₂O)를 동시에 분해할 수 있는 촉매는 없었을 뿐만 아니라, 반도제와 디스플레이 공정 특성 때문에 질소산화물(NOx) 처리에도 고효율 처리 기술이 아닌, 저효율 오존산화처리방식이 사용돼 왔다.
연구진은 F-가스, N₂O 복합 처리용 촉매기술을 확보한 것은 물론, 입자나 산성가스 영향 없이 습식 흡수액을 통한 고효율 NOx 흡수처리 성능(90% 이상)을 확보했다.
에너지연의 개발 기술은 반도체 제조 공정, 디스플레이 제조 공정 등에서 각광받을 것으로 기대된다.
김영준 기자 kyj85@etnews.com
