SK하이닉스가 올해 시설투자액를 당초 계획보다 37% 확대한다. 메모리 시장 호황을 놓치지 않겠다는 의지를 표명한 것으로 풀이된다.
26일 SK하이닉스는 올해 시설투자에 9조6000억원을 투입할 계획이라고 공시했다. 이날 이사회에서 이 같은 추가 투자 계획을 확정했다. 이는 올해 초 공시한 시설투자 예상액 7조원 대비 37.1% 증가한 수치다. 지난해 시설투자액(6조2900억원)과 비교하면 무려 52.6% 확대됐다.
SK하이닉스의 올해 시설투자 예상액이 이처럼 늘어난 이유는 신공장 완공을 앞당기기로 했기 때문이다.
이명영 SK하이닉스 재무기획본부장(전무)은 지난 25일 2분기 실적발표 직후 열린 콘퍼런스콜에서 “중국 우시(D램), 충북 청주(낸드플래시) 신공장 완공 시기를 2019년 상반기에서 내년 4분기 정도로 앞당기는 것을 검토하고 있다”고 전한 바 있다. 약 6개월 공장 완공 시기를 앞당긴 것이다.
SK하이닉스는 신공장 완공 이후에도 급격한 물량 증가는 없을 것이라고 밝혔다. D램과 낸드플래시 공히 생산 용량 확대 수치는 3~5% 수준에 그칠 것으로 예상된다.
업계 관계자는 “기술 업그레이드와 이로 인한 스탭 수 증가로 손실되는 메모리 생산량을 만회하면 총 생산용량 확대는 제한적일 것”이라고 말했다.
증권가에선 올해 SK하이닉스 영업이익이 11조원을 상회할 것으로 예상하고 있다. 연간 9조6000억원을 시설투자에 사용하면 벌어들인 이익 대부분을 재투자하는 것이다.
반도체 업계 전문가는 “반도체 미세화 한계로 투자비가 증가했고, 한 세대 공정을 미세화했더라도 칩 생산 증가량이 과거만 못하다”면서 “투자비는 역대 최대치를 기록하고 있지만 공급 물량이 수요를 따라가지 못하는 것도 이 때문”이라고 설명했다.
SK하이닉스가 올해 투자액을 상향 조정함에 따라 장비 등 후방 산업계는 큰 수혜를 받을 전망이다. 수혜 업체로는 주성엔지니어링, 테스, 유진테크, 유니테스트, 엘오티베큠, 케이씨텍, 한미반도체, 유니셈, 피에스케이 등이 거론된다.
한주엽 반도체 전문기자 powerusr@etnews.com
