동진쎄미켐, 국내 최초 TSP용 30㎛급 감광성 실버 페이스트 개발

스마트폰 디스플레이의 베젤을 얇게 만드는 데 가장 중요한 역할을 하는 전극 형성용 소재가 국산화됐다. 특히 이 소재는 얇은 베젤을 위해 사용하는 최신 공법에 쓰이는 소재로, 일본 기업들보다는 다소 늦었지만 시장 초기 단계에 진입했다는 점에서 의미가 깊다.

동진쎄미켐, 국내 최초 TSP용 30㎛급 감광성 실버 페이스트 개발
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동진쎄미켐의 감광성 실버페이스트로 20마이크로미터 두께의 패턴 형성한 모습. 공정 안정성이 보장돼 패턴이 선명하다.

동진쎄미켐(대표 이부섭·이준혁)은 터치스크린패널(TSP)의 베젤 부분 전극 형성 소재인 감광성 실버 페이스트를 30㎛ 제품으로 개발했다고 12일 밝혔다.

이 소재는 TSP의 인듐주석산화물(ITO) 패턴을 연성회로기판(FPCB)과 연결하기 위한 전극을 형성하는 데 사용된다. 과거에는 스크린 공법의 다이렉트 패턴 방식을 적용했으나, 이 기술은 50㎛ 이하로 패턴을 만들기 어려워 베젤 두께를 줄이기 힘들다. 이 때문에 노광기를 이용한 방식이 최근 인기를 끌고 있으며, 이 공정을 적용하기 위해서는 소재도 감광성 실버 페이스트를 사용해야 한다. 보편적으로 사용되는 100㎛급 스크린공법은 4.1인치 기준 베젤 두께가 1.7㎜이지만, 노광공법의 30㎛급 패턴으로는 두께를 0.51㎜까지 줄일 수 있다.

그동안 이 소재는 도레이 등 일본 기업으로부터 전량 수입됐다. 국내 스마트폰에 사용되는 시장만 약 200억원 규모인 것으로 추산된다. 현재는 일부 고급 기종에만 사용되고 있지만, 노광 방식의 연간 성장률은 70%에 이를 만큼 성장성이 높다. 오는 2017년부터 시장 규모는 천억원대로 커질 것으로 기대된다.

더욱이 동진쎄미켐이 개발한 페이스트는 외산 제품 대비 공정 안정성이 더 높은 것으로 평가받고 있다. 패턴을 만들고 빛을 쪼인 후 현상하는 과정을 거치는데, 소재의 안정성이 수율에 결정적인 영향을 끼치게 된다. 현상하는 시간이 짧으면 불필요한 잔여물이 남게 되고 반대로 시간이 길면 패턴까지 없어지는 문제가 나타나는데 안정성이 높으면 시간에 크게 구애받지 않는다. 이 회사는 기존 재료 대비 1.5배 정도 현상 시간의 여유를 갖는 안정성을 확보했다고 설명했다. 내로 베젤의 수율을 끌어올리는 데 관건이었던 안정성 문제가 해결된 만큼 이 공정 기술이 주목받을 전망이다.

동진쎄미켐은 20㎛급 소재도 최근 개발해 양산성 검증에 들어갔다. 올해 말까지 10㎛급의 고해상도를 구현할 수 있는 감광성 실버페이스트도 개발할 계획이다.

이준혁 사장은 “이번에 개발한 30㎛급 감광성 실버 페이스트는 당장 양산이 가능한 수준”이라며 “소재 선진국들이 독점하던 미세 선폭 전극 재료 분야의 기술 격차를 크게 줄이게 됐다”고 말했다.


공법별 베젤 두께 비교. 출처 : 업계


문보경기자 okmun@etnews.com


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