대만 D램 업체인 이노테라가 차세대 공정 조기 전환과 설비 투자 확대를 통해 공격 경영에 나선다.
30일 업계 및 디지타임스에 따르면 대만 D램 업체인 이노테라는 오는 9월부터 42나노 공정 으로 전환할 예정이다. 이처럼 미세 공정 전환을 서두르는 것은 시장 선두인 한국의 삼성전자와 기술 격차를 좁혀보겠다는 뜻이다. 이는 당초 계획보다 두달 가량 빨라진 것으로, 설비 투자 규모도 더 불어날 전망이다. 이노테라는 원래 투자 계획이었던 450억 대만달러(약 1조6731억원)에서 올초 520억 대만달러로 늘린다고 발표했었지만, 다시 570억 대만달러 규모까지 확대할 것으로 업계는 관측했다. 또 오는 3분기부터 50나노 공정 양산에 들어가 전체 생산량의 절반 이상으로 끌어올릴 계획이다. 이노테라는 미국 마이크론테크놀러지와 대만 난야테크놀러지가 설립한 D램 합작사로, 현재 월 13만장 규모의 12인치 웨이퍼 생산 공장 2개를 가동중이다.
hseo@etnews.co.kr
서한기자
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