에버테크노,디지털노광기용 위치제어 기술 개발 나서

에버테크노가 한국과학기술연구원(KAIST)과 공동으로 반도체 핵심 생산장비인 디지털 노광기에 적용되는 초정밀 위치제어 기술 개발에 본격 나선다.

에버테크노는 이를 핵심으로 한 반도체디스플레이 전략기술 개발사업 협약을 체결했다.

에버테크노는 오는 2011년까지 정부지원금 15억원을 포함해 총 21억원 정도의 연구개발비를 투입할 계획이다.

전자신문인터넷 이희영기자 hylee@etnews.co.kr