케이씨텍이 반도체 Wet 장비에 적용할 수 있는 건조기술에 대한 특허를 취득했다.
이 기술은 공정챔버와 연결되어 건조제를 공급하는 공급라인에 히팅 유닛(heating unit)을 배치하여 미립자 상태로 분사된 건조제를 가열함에 따라 챔버내의 건조 분위기를 최적화하여 웨이퍼 건조 효율을 높일 수 있는 기술이다.
케이씨텍은 이 기술을 반도체 웨트 장비에 적용할 계획이다.
전자신문인터넷 이희영 기자 hylee@etnews.co.kr
많이 본 뉴스
-
1
현대차, AI·로봇산업협회 부회장사 합류…로봇 생태계 힘 싣는다
-
2
삼성D '아산2단지'·LGD '플립'…내년 대규모 디스플레이 투자 논의 착수
-
3
HD현대, 대형 전기추진선 상용화 기술개발 가속
-
4
TSMC, 3분기 매출 전년대비 41% 증가…2나노 비중 확대
-
5
라온텍-에스엔디스플레이, 페로브스카이트 기반 차세대 마이크로디스플레이 협력
-
6
中 나우라, 하이브리드 본딩 장비기업 인수…첨단 패키징 사업 강화
-
7
휴머노이드 가이드라인 마련 착수…내년 시범보급 등 확산 대응
-
8
[세미콘 웨스트 2026]반도체 무게중심, '후공정'으로 이동
-
9
[영상] 노보센스, KES 2026서 산업용·로봇용 반도체 기술 선보여
-
10
이재용 삼성전자 회장, 중동 파견 임직원 격려…“책임감·노력에 깊이 감사”
브랜드 뉴스룸
×











