도시바 22nm 시모스장비 개발에 몰레큘러 기술 활용

　나노임프린트 전문업체인 몰레큘러임프린트는 도시바반도체가 22나노미터(nm) 노드 시모스(CMOS) 장비 개발에 자사의 임프린트 리소그래피 기술을 적용했다고 24일 밝혔다.

도시바는 몰레큘러의 ‘임프리오250 시스템· 사진’을 사용해 협폭의 트렌치 특징을 18나노미터까지 낮춰 제조했다. 도시바는 이같은 개발 과정과 연구 결과를 덴마크 코펜하겐에서 열리고 있는 ‘마이크로 및 나노공학(MNE)에 관한 제33회 국제회의’에서 공식 발표했다.

몰레큘러 측은 “극자외선 리소그래피(EUL)와 달리 기존의 광 리소그래피 인프라를 기반으로 하기 때문에 초고밀도 시모스 장비를 경제적으로 생산하는데 적극 활용될 수 있다”고 덧붙였다.

이진호기자@전자신문, jholee@