CMP 슬러리 양산경쟁 본격화

　

　고집적 반도체 제조시 필수공정인 화학기계적연마(CMP) 공정용 슬러리의 국산화가 빠르게 진행되고 있다.

　8일 업계에 따르면 제일모직·한화석유화학·동진쎄미켐 등 기존 업체들이 설비증설에 적극 나서고 있으며 에이스하이텍·크린크리에티브 등도 양산에 들어갈 예정이다.

　업계 관계자는 “반도체 경기가 언제 회복될지는 미지수지만 기존 CMP 슬러리 시장에서의 국산화 수요가 크고 불황 타개를 위해 고집적·고부가가치 제품으로 방향전환을 하는 소자업체들이 CMP 공정도입을 늘리고 있어 전체 물량도 늘어나는 추세”라며 “국내업체들의 본격 양산으로 현재 20∼30%에 불과한 CMP 슬러리 국산화 비율이 크게 올라갈 것”이라고 기대했다.

　한화석유화학(대표 신수범)은 최근 퓸드 실리카 타입의 층간절연막용 옥사이드 슬러리의 생산설비를 월 200톤 규모에서 4000톤 규모로 증설했다. 이 회사는 오는 2003년까지 1만톤 규모로 생산설비를 증설할 예정이며 차세대 슬러리인 STI용 슬러리, 메탈 슬러리, 콜로이달 슬러리도 개발중이다.

　제일모직(대표 안복현)은 층간절연막용 옥사이드 슬러리에 대한 평가를 마치고 지난달부터 월 100톤 규모씩 생산해 소자업체에 공급하고 있다. 이 회사는 물량확대에 대비, 올해 말 완공예정으로 구미공단에 연산 6000톤 규모의 제2공장을 건설중이다.

　동진쎄미켐(대표 이부섭)은 층간절연막용 옥사이드 슬러리의 생산설비를 연산 4000톤에서 연산 6000톤 규모로 50% 가량 증설해 아남반도체와 하이닉스반도체 등 국내 반도체 소자업체에 공급하는 물량규모를 월 200톤에서 다음달부터 월 500톤으로 늘릴 예정이다.

　에이스하이텍(대표 장정수)은 자체 개발한 층간절연막 및 베어웨이퍼 연마용 콜로이달 실리카 타입의 슬러리에 대한 소자업체와의 테스트가 마무리 단계에 있다. 이 회사는 지인산업단지내에 원부자재인 소듐실리케이트부터 완제품에 이르는 일괄 생산공정을 갖추고 올해 말부터 연산 6000톤 규모씩 생산할 예정이다.

　크린크리에티브(대표 이병구)도 충북 음성공장에 연산 200톤 규모의 베어웨이퍼 연마용 콜로이달 타입 옥사이드 슬러리 공장을 완공하고 이달 중순부터 웨이퍼 제조업체를 대상으로 공급에 들어간다.

　<정진영기자 jychung@etnews.co.kr>