특허청, 의장출원 공개제도 도입 추진

의장의 경우에도 특허나 실용신안과 유사한 출원공개제도가 도입될 전망이 다. 특허청은 31일 의장등록출원인의 권리보호를 위한 의장등록출원 공개제도를도입 금년 정기국회에서 법개정절차를 완료하고 내년부터 시행한다고 발표했다. 이에 따라 출원인은 출원후 의장에 대한 공개를 신청、 특허청이 공개할 경우 의장권 모방.도용에 대해 보상금청구권을 갖게 되며 우선심사 신청으로 심사처리기간이 단축된다.

그간 의장출원은 물품의 외관에 관한 출원이 많아 출원중에 모방.도용시비가많았다. 특허청은 제도의 효과적인 실시를 위해 올해안 관련 하위법령을 개정할 방침이다. <김상용 기자>