차세대 초청정 기술 개발 추진-

64MD램 이상의 초고집적 반도체 제조에 필요한 차세대 초청정 기술개발 사업 이 본격 추진된다.

31일공기청정 연구조합은 차세대 반도체 생산의 필수적 기반기술인 초청정 클린룸 개발을 목표로한 차세대 초청정 기술개발 기획안을 확정, 이를 추진 키로 했다고 밝혔다.

공기청정연구조합은 이를위해 과학기술처의 중간핵심 기술사업 10대 과제중 하나인 중소기업형 환경 기술 개발사업 과제로 차세대 초청정 기술개발 사업 을 선정, 지원을 요청한 것으로 전해졌다.

공기청정연구 조합이 클린룸 업계의 의견을 종합해 확정한 기획안에 따르면 차세대 초청정 기술개발사업은 *클린룸내의 유해가스 제어기술 개발 옹스트롬 10-?cm) 단위의 초미세 입자 제어기술 개발 *미세영역에서의 기류 제어기술 개발 *제조 프로세서 장치내의 오염제어 기술개발 등 4개의 기획 과제별로 세부과제들이 4년간 연차적으로 추진된다.

조합은이 과제를 추진 하는데 사업 시작 1차연도에 2억원, 2차연도에 2억원 3차 연도에 3억5천만원, 4차연도에 2억5천만원 등 총10억원의 예산이 들어갈것으로 예상하고 있다.

특히기획 과제별로 연구개발 사업을 추진하되 이를 총괄할 사업단을 지정해 관련 핵심요소 기술간 연계, 조정을 통한 차세대 클린룸 기술의 일괄 개발을 추진하고 산.학.연 공동개발 및 기업간 전략적 제휴를 유도, 개발 기술을 조기에 상품화.기업화할 계획이다.

차세대초청정 기술개발 사업은 기존의 클린룸 기술이 초고 집적화하는 반도체 제조공정에 부합되지 않는 한계를 보임에 따라 차세대 반도체 제조공정에 적합한 새로운 초청정 환경 기술을 자체적으로 개발, 반도체 산업의 국제 경쟁력을 높이기 위한 것이다.