알엔알랩은 반도체 전공정에서 사용하는 '레이저 어닐링' 장비를 개발하는 중소기업이다. 어닐링은 반도체 제조 과정에서 웨이퍼 손상을 최소화 및 복원할 수 있도록 온도 변화를 주는 공정이다. 어닐링 장비 성능에 따라 반도체 수율에 영향을 줄만큼 중요하다.
여러 방식 가운데 레이저 어닐링이 주류로 자리매김했다. 웨이퍼에 인가되는 열처리 노출 시간을 줄여 반도체 제품 성능을 올릴 수 있어서다. 시스템 반도체에는 2010년대부터, 메모리는 2020년대부터 레이저 어닐링 도입이 급증했다.
알엔알랩은 2017년 레이저 어닐링 사업을 시작, 내년에 첫 레이저 어닐링 장비를 고객사에 납품할 계획이다. 이를 위해 올해 국내 대기업 두 곳과 실제 공정에서의 장비 품질을 평가했다. 알엔알랩 장비는 생산성이 경쟁사 대비 30% 이상, 어닐링 성능을 좌우하는 열산포가 50% 이상 높은 것으로 나타났다.
알엔알랩 레이저 어닐링 장비는 열처리 시 열의 노출 시간을 밀리세컨드에서 마이크로세컨드까지 자유롭게 변경할 수 있다. 또 설비 크기가 경쟁사 대비 40% 이상 작고, 이에 따라 부품도 적어 설비 유지 비용 측면에서도 경쟁력을 확보했다고 회사는 설명했다.
알엔알랩은 창업 초기부터 주요 기술 특허를 출원하는 등 지적재산권(IP) 기반의 사업 전략을 구축했다. 등록 특허만 15건이고 출원특허도 15건에 달한다.
[류정도 알엔알랩 대표]
류정도 대표는 서울대 재료공학부를 졸업해 삼성전자 반도체 연구소, 매트슨 테크놀로지, 울트라테크(현 비코)를 거친 뒤 창업했다. 반도체 장비 사업은 기술 진입 장벽이 높고 많은 자본이 필요한 분야지만 시장 성장성이 크다고 보고 사업에 뛰어들었다.
류 대표는 “2010년부터 매트슨 테크놀로지에서 초단위, 세컨드단위 열처리 기술인 'RTP', '패스트 RTP'를 담당하며 어닐링 기술을 접했다”며 “레이저 어닐링은 2013년부터 울트라테크로 자리를 옮겨 맡게 됐고 시장에서 많은 수요가 있을 것으로 보고 창업한 것”이라고 말했다.
그는 기술 위주의 세계적 기업을 만들어가겠다는 포부를 내놨다. 해외 선진 장비사 기술을 모방하지 않는 독자적 기술 기반의 장비사로 거듭났다는 계획이다. 이를 위해 매출의 최대 20%를 연구개발(R&D)에 재투자할 방침이다.
류 대표는 “레이저 어닐링 기술로 고대역폭메모리(HBM)을 비롯한 차세대 패키징 시장도 공략할 계획”이라며 “2026년을 목표로 해외 시장 진출을 준비하고 2027년 상장 추진을 계획하고 있다”고 말했다.
박진형 기자 jin@etnews.com
