재원산업, 반도체 용제 생산설비 증설 등 250억 투자...역량제고 힘쓴다

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재원산업이 지난해에 이어 올해에도 이차전지 및 최첨단 반도체 용제 분야에 대규모 신규 투자를 단행하는 등 기업 역량 제고에 온 힘을 기울인다.

재원산업은 올 한해 반도체 용제 분야에는 생산 설비 증설, 제품 고도화·다양화를 목표로 250억원을 투자할 계획이라고 15일 밝혔다. 지난해(200억원)보다 많은 금액이다. 반도체 용제, 이차전지 분야를 비롯한 전체 분야 올해 투자액은 총 850억원이다.

재원산업은 적극적 투자로 반도체 용제 제품 생산, 포트폴리오 강화에 나설 계획이다. '프로필렌 글리콜 모노메틸 아세테이트(PGMEA)' '에틸 3 에폭시 프로피로네이트(EEP)' 생산 등 반도체 극자외선(EUV) 공정 핵심 용제 국산화에 특히 힘쓴다.

PGMEA와 EEP는 반도체용 신너(thinner)로 웨이퍼 가장자리에 묻은 감광 물질(포토레지스트·PR)을 씻어내는 역할을 한다. PGMEA의 경우 2018년 개발에 착수, 지난해 99.999%(5N) 초고순도를 구현했다. 기존 국내에 없던 기술로 제조한 것이다. EEP는 2012년 제조법을 자체 개발, 내수시장을 장악했다.

재원산업은 두 제품 각각 연간 3만톤 규모 양산 능력을 갖춘 상태로, 2000억원 규모 수입 대체 효과가 있을 것으로 보고 있다.

재원산업은 이밖에 이차전지 분야 신규 양극재 및 음극재 도전재 분산액 제조 기술 역량 제고에도 여력을 기울이고 있다.

심재원 재원산업 대표는 “반도체·이차전지 시장 확대를 예상하고 고객사 니즈에 부합하는 초고순도 제품 개발에 10여년간 노력해 공업용 제품을 수입해 전자·반도체용 제품을 생산했고, 최근에는 원재료로부터 직접 제품을 합성·생산하는 수준까지 경쟁력을 높여 국내 최초 초고순도 PGMEA·EEP 개발과 양산에 성공했다”며 “국내 최초라는 이름에 맞게 제품 경쟁력을 더 강화해 글로벌 넘버원 전문기업 발전을 통해 국가 경제에 기여할 것”이라고 말했다.

한편 재원산업은 분리와 정제기술 역량을 갖춘 창립 35주년 기업이다. 이차전지 도전재 분야에서도 큰 성과를 낸 곳이다. 2차전지 제조공정에서 발생하는 NMP 관련 친환경 재생 기술을 개발해 산업통상자원부로부터 이산화탄소(CO₂) 감소 첨단기술 인정을 받았으며 이를 바탕으로 도전재 분산 용매 시장에서 국내외 높은 시장 점유율을 유지하고 있다.


김영준기자 kyj85@etnews.com


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