ASML이 차세대 극자외선(EUV) 반도체 노광장비 '하이 NA(High NA)'를 출시하는 2025년 실적 전망치를 대폭 상향 조정했다. 매출액과 순이익률 모두 지난해 대비 2배 이상 증가할 것이란 전망이다. 반도체 시장 성장세가 가파르고 EUV 수요가 확대된 영향으로 풀이된다.
ASML은 29일(네덜란드 현지시간) 'ASML 인베스터 데이'를 열고 2025년 매출액 전망치를 최대 300억유로(약 41조2700억원)로 높여 잡았다. 기존 ASML의 2025년 최대 매출액 전망치는 240억유로였다. 지난해 ASML 매출액이 140억유로인 것을 고려하면 5년 새 2배 이상 매출이 늘 것이란 전망을 내놓은 것이다.
순이익률 전망치도 크게 높였다. ASML은 작년 순이익률 25%를 기록했다. 2025년 전망치는 54~56%로 상향 조정했다. 피터 베닝크 ASML CEO는 “2025년 이후로도 지속 성장이 예상된다”면서 “2030년까지 ASML 매출액이 연평균 11%씩 증가할 것”이라고 내다봤다.
ASML의 이같은 높은 실적 전망치는 반도체 산업 성장과 첨단 미세 공정 확산에 따라 ASML 주요 제품 수요가 크게 확대될 것이란 판단에 기인한다. ASML은 10나노 공정 이하 첨단 미세 공정에 필요한 EUV 노광장비를 독점 공급하고 있다. 삼성전자와 SK하이닉스, TSMC 등이 ASML EUV 장비 주요 고객이다. 인텔과 마이크론도 ASML EUV 장비 도입을 앞두고 있어 고객사 저변 확대가 예상된다.
ASML은 2024년이 되면 주요 첨단 반도체 제조사가 모두 EUV 장비를 가동할 것으로 예상했다. 또 반도체 제조사의 EUV 적용 레이어 수가 증가함에 따라 EUV 장비 추가 도입도 전망된다.
차세대 EUV 장비 개발 및 출시도 ASML의 매출 자신감에 한 몫했다. ASML이 매출액과 순이익률이 2배 이상 뛸 것이란 전망한 2025년은 하이 NA EUV 장비가 본격 양산되는 시점이다. 하이 NA EUV 장비는 노광 렌즈 수차(NA)를 기존 0.33에서 0.55로 끌어 올린 것으로 적은 횟수로 미세 회로를 그릴 수 있다. 이를 통해 회로 패턴이 새겨진 마스크 사용 수를 줄여 비용을 절감하고 공정 시간을 단축할 수 있다.
현재 인텔이 ASML 하이 NA EUV 장비를 우선 도입하겠다고 계약한 상태다. 하이 NA EUV 장비의 대규모 양산이 시작되면 삼성전자, TSMC 등 다른 반도체 제조사도 구매할 가능성이 매우 높다. 크리스토프 푸케 ASML 수석 부사장은 “EUV 장비를 확장하고 0.55 NA EUV 장비를 도입해 고객의 지속적인 미세 회로 패터닝 수요에 대응할 것”이라며 “이를 통해 EUV 장비의 가치가 향후 10년간 이어질 것으로 예상된다”고 덧붙였다.
한편, ASML은 이날 행사에서 “지속적인 투자를 통해 기술 리더십 기반으로 주주 가치 증대에 노력하겠다”면서 “꾸준한 배당금 증가와 자사주 매입으로 주주 이익을 위해 힘쓸 것”이라고 밝혔다.
<반도체 EUV 레이어 수에 따른 필요한 EUV 장비 수>
자료=ASML
권동준기자 djkwon@etnews.com
