국내 연구진이 상압에서 저온의 플라즈마를 이용해 공정 시간과 비용을 줄여 고순도 이산화티타늄을 고속으로 증착할 수 있는 기술을 개발했다. 생활환경 및 반도체 코팅물질 개선에 기여할 것으로 예상된다.
전북대(총장 이남호)는 문세연 공대 양자시스템공학과 교수팀이 저온의 상압 플라즈마 기술을 활용해 광촉매제인 이산화티타늄을 화학기상증착 대비 2~3배 빠른 속도로 증착할 수 있는 기술을 개발했다고 5일 밝혔다. 이 기술로 이뤄진 이산화티타늄 증착은 기존 공정 시스템에서 이뤄진 것보다 뛰어난 품질을 보였다.
이산화티타늄은 빛을 흡수해 다른 물질을 산화시키는 능력이 우수하다. 살균제와 악취제거, 항균제 등의 생활환경 분야 뿐 아니라 반도체, 태양전지 셀 등의 코팅물질로 널리 활용된다.
일반적으로는 졸-겔법이나 고진공의 화학기상증착과 진공플라즈마 증착법이 사용되고 있다. 최근에는 열에 약한 유연소재 위에 이산화티타늄을 증착하기 위한 저온의 증착공법이 적용되고 있으나 속도가 느린데다 품질도 좋지 않았다.
연구팀은 증착 속도 향상 뿐만 아니라 상압 플라즈마 특성을 컨트롤해 증착층에 존재하는 탄소와 같은 불순물을 제어할 수 있다는 사실도 밝혀냈다.
문세연 교수는 “기존에는 진공장치나 가열부품 등 고가의 장비와 복잡한 공정이 필요했지만 단순한 저온 상압 플라즈마 공정은 시간과 비용을 절감할 수 있다는 장점이 있다”면서 “곧바로 산업화에 적용할 수 있을 것”이라고 말했다.
전주=김한식기자 hskim@etnews.com
