아사히 글라스가 극자외선 노광기술(EUVL) 블랭크마스크를 증산한다고 발표했다. 블랭크마스크는 반도체 설계 회로가 새겨지기 전 상태인 원판을 말한다.
아사히 글라스는 자회사 AGC전자 본사 공장에 새로운 설비를 도입하고 종업원도 늘린다. 반도체 시장은 고속·대용량화를 목표로 공정 미세화가 계속되고 있다.
블랭크마스크는 반도체 공정 핵심 소재로 꼽힌다. 블랭크마스크에 노광기술로 전자회로를 새기면 포토마스크가 된다. 포토마스크를 웨이퍼에 올려두고 빛을 쏘면 웨이퍼에 전자회로가 형성된다.
반도체 웨이퍼에 형성하는 회로 선폭이 미세화되면서 현재 10나노미터 수준에 이르렀다. 향후 7나노미터 공정이 주류를 이을 전망이다. 다만 선폭이 너무 가늘어 기존 불화 아르곤(ArF) 광원에는 대응할 수 없다.
이 때문에 나노미터 수준 회로를 형성하려면 파장이 짧은 EUVL이 필요하다. 또 미세한 스크래치나 이물질이 없는 원판이 필요하다.
아사히 글라스는 구체적 생산량과 투자액은 공개하지 않았지만 블랭크마스크에 공격적으로 투자해 반도체 산업 발전에 기여할 것이라고 밝혔다.
이영호기자 youngtiger@etnews.com
