특허청은 출원인의 편의 증진과 우수 아이디어의 조기 권리화 및 보호 강화를 주요 내용으로 하는 ‘올해 달라지는 지식재산 제도’를 1일 발표했다.
이에 따르면 중소기업 지원 대상이던 특허·상표·디자인의 해외 권리화 지원을 올해부터는 개인 등 예비창업자도 받을 수 있게 된다. 공모전에서 나온 우수 아이디어를 특허로 출원할 때 일반 특허출원보다 심사 결과를 빨리 받아볼 수 있는 우선 심사 신청도 가능해진다.
특허청은 벤처기업과 기술혁신형 중소기업, 1인 창조기업 기술개발 사업 관련 출원 등에 제공해 온 디자인 우선심사 대상에 ‘굿 디자인(GD)’으로 선정된 디자인을 추가한다.
기술 난이도가 높은 출원에 대해 심사 전에 출원인과 심사관이 면담해 정확하고 신속한 심사를 도모하는 예비심사제도 대상도 확대한다.
중국 등 아시아에 진출한 우리 기업의 상표 침해 예방을 위해 수출 기업을 대상으로 모조품 대응전략, 수출 상품 이름 등의 컨설팅을 제공한다. 또 해외지식재산권센터(IP-DESK)에서 현지 활동 중인 상표 브로커를 상시 감시해 우리 기업의 피해를 예방해 나간다.
중소기업이 영업비밀 원본증명제도를 이용할 때 내는 1만원의 등록비용 중 70%를 지원해 올해부터는 3000원에 이용할 수 있다. 국어뿐 아니라 영어로도 특허출원을 할 수 있고, 연구노트나 논문으로도 출원할 수 있게 형식요건을 완화한다.
특허 출원 시에만 가능했던 공지 예외주장이 앞으로는 특허 등록 전까지 가능해진다. 분할출원의 경우 등록결정 시까지만 가능했으나 등록결정 이후에도 가능하도록 바뀐다.
대전=신선미기자 dslim@etnews.com
