세메스·주성·ATPC, 드라이에처 개발 `각축`

세메스·주성·APTC 3사가 3차년도 부품·소재 개발사업 과제를 따기위해 치열한 각축을 펼치고 있다. 반도체장비 부품·소재 개발과제는 150억∼200억원이 투입되는 대규모 사업으로 6일부터 프리젠테이션을 거쳐 이르면 8월 말 최종 확정되며, 올해말부터 본격 사업에 착수하게 된다.

4일 관련업계에 따르면 세메스·주성·APTC 3사는 차세대 반도체 핵심장비인 나노공정 대구경웨이퍼 드라이에처(건식 식각장비) 개발에 필요한 부품개발을 위해 ‘3차년도 산자부 부품·소재 개발사업, 반도체 드라이에처 부문’ 과제 따내기에 심혈을 기울이고 있다.

삼성전자 메카센터와 차세대 에처기술 개발을 진행해 온 세메스(대표 이승환)는 이번 정부과제를 따내 수요기업인 삼성전자의 로드맵에 맞춰 세계 최첨단 공정의 드라이에처 및 부품·소재를 국산화한다는 계획이다.

관계사인 메카센터는 R&D용이지만 300㎜·90나노 옥사이드 에처장비를 개발해 삼성전자 팹에 적용한 경험을 갖고 있다. 회사 관계자는 “이번 정부 프로젝트는 예전과 달리 수요기업이 형식적으로 이름만 빌려주는 것이 아니라 실제로 직접 핵심 유닛을 개발한다”며 “따라서 수요기업이 삼성전자인 세메스가 프로젝트 과제 수행능력 면에서 강점이 있다”고 말했다.

지난 99년부터 드라이에처 사업에 착수한 주성엔지니어링(대표 황철주)은 세계시장에서 납품 경쟁력을 확보할 수 있는 65나노·45나노 드라이에처를 선행 개발해, 부품·소재 국산화의 의미를 살려 나가겠다며 이번 과제에 도전장을 냈다. 지난 2002년초 에처 전문업체인 ATL을 약 170억원에 인수하면서 장비 개발을 가속화해, 이미 200㎜ 폴리실리콘 및 옥사이드 에처장비를 개발한 상태다. 이 회사는 평가용(논 크리티컬 공정) 300㎜ 폴리 에처를 하이닉스와 함께 6개월째 검증하고 있다. 이 분야에서 52건의 관련 특허를 출원했으며 32건은 등록된 상태다. 이 회사 관계자는 “정부 과제 참여를 통해 장비 개발 및 상용화의 속도를 높이고, 관련 부품·소재의 국산화·수출사업화에도 기여할 것”이라고 말했다.

APTC(대표 김남헌)는 2002년부터 에처사업을 개시해 올 2분기 200㎜ 메탈 드라이에처를 하이닉스에 양산 판매한데 이어, 6월에는 300㎜ 평가용 산화물 드라이에처 개발을 완료했다. 이 회사는 기존 국내외 장비회사가 사용하는 플라즈마 방식과 다른, 나노공정에 접합한 새로운 소스(ACP·어뎁티브 커플드 프라즈마)를 개발, 90나노 이하 장비에 채택한다는 계획이다. 회사 관계자는 “ACP 소스가 장착된 10여대 챔버와 다수의 시스템을 양산라인에 납품한 상태”라며 “정부 과제를 통해 최첨단 공정 드라이에처 개발을 한층 가속화할 것”이라고 말했다.

심규호기자@전자신문, khsim@