나노종합팹센터 서비스 개시

10나노(1나노=10억분의 1)미터 이하 반도체용 초미세 패턴을 형성하는 ‘전자빔(E-Beam)’장비, 나노 구조분석용 초미세 시편을 제작할 수 있는 ‘집속이온빔(FIB)’장비 등을 갖춘 나노종합팹(Fab)센터가 16일부터 연구지원서비스를 개시한다.

　특히 센터가 1∼2㎝×1∼2㎝급 조각 웨이퍼와 8인치 웨이퍼 설비를 통해 나노급 반도체 칩의 초기 아이디어 검증에서부터 시제품까지 구현하는 체계를 갖추면서 삼성종합기술원, 삼성전기, LG화학 등의 과제 협력요청이 쇄도하고 있다.

　과학기술부와 나노종합팹센터(소장 이희철)는 지난해 12월 한국과학기술원 내에 연건평 5448평 규모의 센터건물<사진>을 완공하고 787억원을 들여 140개 첨단장비를 구매, 산·학·연 나노기술 연구자들의 다양한 수요에 부응하는 서비스를 본격 제공한다고 15일 밝혔다.

　나노팹센터는 지난 2002년부터 2년간 1063억원(정부 650억원)이 투입된 고가 나노 연구장비 공동 활용기관이다. 또 오는 2011년까지 1737억원(정부 1307억원)이 추가로 투입돼 장비 확충, 이용 활성화, 자립화 등을 꾀하게 된다.

　이희철 소장은 “나노 반도체 소자, 초미세전자기계시스템(MEMS), 나노 바이오 칩 제작공정이 한 것(팹센터)에서 일괄적으로 이루어질 수 있게 돼 나노 관련 융합기술의 세계 경쟁력을 확보할 수 있을 것”이라며 “센터를 국내 나노산업의 메카로 만들겠다”고 말했다.

　김영식 과기부 기초연구국장도 “센터가 실리콘계 반도체를 나노 스케일로 상용화하는데 크게 기여할 것”이라며 “오는 2010년까지 세계 5위권의 나노 선진국을 실현할 초석이 마련됐다”고 강조했다.

　이은용기자@전자신문, eylee@

사진: 작년 12월 대전광역시 대덕구 한국과학기술원 내 완공된 나노종합팹센터.