[나노코리아 2004]참가업체-NND

　나노 임프린트 장비 업체인 NND(대표 배종서)는 50㎚ 이하의 패턴을 형성할 수 있는 임프린트 장비 ‘NANOSIS 610’을 개발 완료, 판매를 시작했다.

　2003년 창업해 1년여의 개발 기간을 거쳐 출시한 ‘NANOSIS 610’은 기존 장비와는 달리 압력 용기를 사용한 정가압 방식을 채택해 임프린팅 후 수지잔류층의 두께를 대면적 기판 전체에 대해 일정하게 최소화함으로써 이후 공정에 절대적으로 유리한 패턴을 얻을 수 있다.

　NND는 해외 업체들과 차별되는 이 기술과 상대적으로 저가인 NANOSIS 610을 지난해 12월 보스턴에서 열렸던 NNT(Nanoimprint Nanoprint Technology) 2003과 지난 3월 도쿄에서 개최된 나노테크2004에 출품, 업계와 학계의 주목을 모은 바 있다.

　올봄 본격적 영업에 나선 NND는 미국의 몰리큘러임프린트와 나노넥스, 오스트리아의 EVG, 스웨덴의 옵두캇 등 나노 선진국 업체들과 대등한 경쟁을 벌이면서 관련 업계의 다크호스로 평가받고 있으며 장비 국산화에도 기여할 것으로 기대된다.

　현재 국내 연구소 및 대학교, 미국 대학교 등에 납품 상담중으로 올해 안에 3대 정도의 판매를 자신하고 있다. 또 나노임프린팅 기술이 상용화되는 2006년부터는 매출이 본격화될 전망이다.

　나노 임프린트는 초미세 가공인 나노 가공(1∼100㎚)을 실현하기 위해 제안된 기술로 차세대 리소그라피 기술로 채택돼 있다. 기판 위에 열가소성 수지나 광경화성 수지를 도포한 후 e빔을 이용해 나노 크기로 제작된 몰드로 가압 경화시켜 패턴을 전사하는 것으로 반도체·FPD·바이오 등에 폭넓게 사용될 전망이다.