듀폰포토마스크, "110nm 이하 마스크 주력"

　듀폰포토마스크(아시아영업부사장 마이크하드셀 http://www.photomask.com)는 올해 130nm급 포토마스크 생산에 주력하고 약 420억원을 투자 110nm 이하(90∼65nm) 포토마스크 개발 강화한다고 18일 밝혔다.

　이 회사 영업담당 김득배 이사는 “지난 2년간 반도체 경기 침체로 차세대 라인 투자가 지연됐으나 지난해 하반기부터 호황에 대비 차세대 고기술 바이너리 마스크와 위상변이마스크 공정 개발을 진행해 왔다”며 “이를 위해 투자를 아끼지 않을 것”이라고 말했다.

　이 회사는 지난해 한국에는 처음으로 첨단 노광장비(JEOL JBX9000)의 가동에 들어가 주요 소자 업체에 130nm급 포토마스크의 인증을 받았으며 이 장비로 90nm급도 개발할 계획이다.

　또 다음 달에는 첨단 검사 장비(SLF)도 도입, 안전성을 확보하고 생산량도 최대화시킨다는 전략이다.

　김 이사는 “포토마스크 업체는 앞으로 단순 마스크 공급업체가 아니라 마이크로이미지 솔루션업체가 돼야 한다”며 “한국의 노광기술을 선도하기 위해 앞으로도 지속적인 투자를 통해 역량을 집중할 것”이라고 말했다.

　한편 이 회사는 최근 독일 드레스덴에 65nm 이하 첨단 포토마스크 개발을 위해 AMD, 인피니언과 공동으로 첨단 기술센터인 AMTC를 설립한 바 있다.

　<손재권기자 gjack@etnews.co.kr>