아토, 플로린(F2) 가스 만든다

　아토(대표 오순봉, 문상영 http://www.atto.co.kr)는 2006년 상용화를 목표로 반도체 및 LCD제조용 차세대 청정가스인 ‘플로린(F2)’ 개발에 착수했다고 21일 밝혔다.

　F2는 지구온난화 현상을 심화시키는 프레온가스(PFC)를 배출하지 않아 현재 반도체 및 LCD 공정에 사용되는 PFC계열의 불화질소(NF3)를 대체할 차세대 청정가스로 영국 BOC에드워드가 올해 말 세계 최초로 양산할 계획이다.

　아토는 이를 위해 원천기술보유업체인 미국 FOC와 기술이전계약을 맺을 계획이며 오는 2006년까지 3년간 65억3000만원을 F2 연구개발비로 투입키로 했다.

　또한 자체 개발한 반도체 제조용 플라즈마 화학기상증착기(PECVD)를 F2전용 장비로 업그레이드해 추가 장비수주에서도 유리한 입지를 점한다는 전략이다.

　문사영 아토 사장은 “F2는 청정도가 높아 현재 NF3를 대체할 경우 세정공정에 투입되는 비용이 9∼22% 가량 절감될 것으로 보여 국내 소자 및 패널업체들이 오는 2005년부터 양산라인에 도입할 전망”이라며 “개발에 성공할 경우 전량 수입에 의존하는 세정가스 수입대체 효과가 연간 200억∼300억원에 달할 것”이라고 말했다.

　<장지영기자 jyajang@etnews.co.kr>