<출품작 소개>한국디엔에스 - K-WET300

총개발비 18억원이 투입된 한국디엔에스의 300㎜ 웨이퍼용 세정장비 K-WET300.

충남 천안 제2산업단지에 있는 반도체 제조용 장비 생산업체 한국디엔에스(대표 박창현 http://www.kdns.co.kr)는 이번 전시회에 세정장비와 스핀스크러버 등을 선보인다.

이 가운데 관심을 끄는 제품은 국내 최초로 개발된 300㎜ 웨이퍼용 세정장비(모델명 K-WET300)로 지난해 11월 제30회 정밀기술진흥대회에서 산업자원부 장관상을 수상하기도 했다. 현재 삼성전자에 공급중인 이 제품은 반도체 제조과정에서 발생하는 미립자와 웨이퍼 표면의 불순물 제거 및 에칭(식각)에 사용되는 장비로 지난 2년간 연인원 24명, 총개발비 18억원이 투입됐다.

「K-WET300」은 기존 200㎜ 웨이퍼보다 더욱 강한 세정력을 갖추기 위해 원배스(one bath)방식을 채택했다. 원배스방식이란 하나의 배스(세척조)에서 세척·린스·건조작업을 연속해 처리하는 것을 말한다.

특히 K-WET300은 기존 장비에 비해 생산성이 뛰어나 단위면적당 웨이퍼 처리속도가 월등히 빠르다. 박창현 사장은 『K-WET300의 개발로 2004년까지 1500억원 이상의 수입대체효과를 거둘 것으로 예상된다』며 『이 장비는 차세대 반도체라 불리는 256M, 1G 라인 등에도 적용할 수 있다』고 설명했다.