<출품작 소개> ASML 코리아 - PAS 5500/800

호환성이 뛰어나 비용절감효과가 있는 ASML의 최신 DUV 스텝 & 스캔 시스템 PAS 5500/800.

ASML코리아(대표 서인학)는 이번 전시회에 저비용·고효율의 248㎚ 불화크립톤(KrF) 리소그래피(lithography)를 이용해 고해상도로 대량생산이 가능한 최신 DUV(Deep Ultra Violet) 스텝 & 스캔 시스템인 PAS 5500/800을 출품한다.

이 제품은 0.08 NA(Numerical Aperture)를 사용해 120㎚의 해상도로 시간당 115장의 200㎜ 웨이퍼를 처리함으로써 반도체의 대량가공뿐 아니라 차세대 반도체의 연구개발에도 적용할 수 있다.

이 시스템에 탑재돼 있는 칼 자이스의 스탈리스(Starlith)800 렌즈는 대량생산 시스템에서도 경쟁력 있는 반도체 디자인을 생산할 수 있다. 안정적인 PAS 5500/800의 시스템 구조는 PAS 5500/400C i-라인 스캐너와 완벽한 상호호환성을 가지고 있으며 기존에 설치된 DUV 및 i-라인 설비와 생산현장에서 바로 호환성 있는 작업을 할 수 있다.

『우리의 업그레이드된 포토리지스트와 프로세스를 활용함으로써 고객사들은 기존의 KrF기술을 더욱 연장해 사용할 수 있을 것』이라고 ASML사의 마케팅 및 기술 담당 부사장인 마틴 반 덴 브링크(Martin van den Brink)는 자신했다.