반도체 제조용 화학재료업체들이 i라인(365㎚ 파장급)용 감광제(포토레지스트) 대신 248㎜ 발진파장에 0.13㎛ 해상도를 구현할 수 있는 불화크립톤(KrF) 및 불화아르곤(ArF·193㎚ 파장급) 광원 등 DUV(Deep Ultra Violet)용 포토레지스트의 공급을 크게 늘리고 있다.
이러한 움직임은 국내 반도체 생산업체들이 회로선폭 0.25㎛(1미크론은 100만분의 1m) 이하의 초미세공정을 도입하면서 반도체 소자의 미세회로 노광공정(lithography)에 사용되는 DUV용 포토레지스트의 수요가 늘고 있기 때문이다.
그동안 i라인용 포토레지스트를 주력 공급해온 동우화인켐(대표 한의섭 http://www.dwchem.co.kr)은 모회사인 일본 스미토모와 기술제휴해 개발한 KrF용 포토레지스트를 양산, 국내 반도체 제조업체들에 월 200갤론 규모를 공급하고 있다.
이 회사의 관계자는 『올해 말부터 KrF용 제품의 공급량이 월 최고 800∼1000갤론까지 증가할 것으로 예상되면서 KrF용 포레지스트 부문 매출비중도 지난해 40% 이하에서 올해 50% 정도로 늘어날 것』이라고 내다봤다.
한국쉬플리(대표 양창원 http://www.shipley.com)는 지금까지 KrF용 포토레지스트 500만달러어치, i라인용 100만달러어치를 각각 공급했는데 올해 말까지 KrF 부문의 공급비중을 전체 매출목표(150억원)의 90%대까지 끌어올릴 방침이다.
주로 i라인용 포토레지스트를 공급해온 클라리언트산업(대표 프리드릭 호니그먼 http://clariant.com)도 올해부터 KrF용 포토레지스트를 경기도 안성 공장에서 생산, 공급에 나섰다. 이 회사의 관계자는 『KrF용 제품에 이어 앞으로 193㎜ 파장에 0.10㎛ 정도의 해상도를 지원하는 ArF 포토레지스트도 공급할 계획』이라고 말했다.
동진쎄미켐(대표 이부섭 http://www.dongjin.com)은 현재 진행중인 KrF용 제품에 대한 양산적합성 평가를 마치는대로 하반기부터 생산, 공급에 나선다는 계획이다. 아울러 이 회사는 경기도 발안 공장 2단지에 ArF용 감광제 전용 생산라인을 갖추고 생산에 들어갈 예정이다.
<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>
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