실리콘테크, DUV용 WEE시스템 개발

　반도체 장비업체인 실리콘테크(대표 김민홍)가 DUV(Deep Ultra Violet) 반도체 노광 공정용 핵심 장비인 웨이퍼주변노광(Wafer Edge Exposure:WEE) 시스템을 개발, 본격 양산한다.

　WEE 시스템은 반도체 제조 과정중 작업 웨이퍼의 바깥 영역을 설정된 수치만큼 자동으로 노광시켜줌으로써 웨이퍼 이송에 따른 작업 손실을 최소화, 전체 반도체 공정의 생산 효율을 획기적으로 향상시킬 수 있는 첨단 장비다.

　특히 DUV용 WEE 장치는 반도체 회로선폭의 미세화 추세와 함께 불화크립톤(KrF) 엑시머레이저를 사용하는 DUV 노광공정이 본격 채택되면서 최근 그 수요가 크게 증가하고 있으며 대당 장비가격만도 1억원을 호가하는 고부가가치 제품이다.

　이런 가운데 실리콘테크가 개발한 WEE 시스템은 정확한 각도 측정을 통한 초정밀 정렬(Align) 기능과 함께 시간당 160장의 웨이퍼를 처리, 기존 외산 제품에 비해 정밀도 및 생산성면에서 30% 이상 향상된 성능을 나타낸다고 회사 측은 밝혔다.

　또한 이 장비는 DUV용 트랙 장비에 핵심 모듈로 부착, 사용될 수 있으며 단독 장비 형태로도 운영 가능하다.

　특히 트랙 장비당 평균 2대씩 설치되던 WEE 시스템을 1개 유닛만으로 처리할 수 있도록 함으로써 전체 트랙 시스템의 생산 효율도 극대화했다.

　실리콘테크 임호성 상무는 『이번에 개발된 WEE 장비는 최근 국내 주요 소자업체에 공급된 데 이어 현재 외국 유명 트랙 장비업체들에 대한 OEM 공급도 추진중이어서 수입 대체는 물론 상당 물량 이상의 수출도 가능할 것』으로 내다봤다.

<주상돈기자 sdjoo@etnews.co.kr>