특허청, 첨단기술 유출 처벌 강화

앞으로 첨단기술을 외부로 유출하거나 영업비밀을 침해, 해당 기업에 손해를 입힐 경우 현직 임직원은 물론 전직 임직원까지 처벌을 받는다. 또 산업기술유출에 대한 형사 처벌도 종전 「3년 이하의 징역 또는 3천만원이하의 벌금」에서 「5년 이하의 징역 또는 5천만원이하의 벌금」으로 대폭 강화되고 특히 영업비밀을 외국에 공개하는 산업스파이의 경우 「8년이하의 징역 또는 1억원이하의 벌금」으로 가중 처벌된다.

특허청은 14일 이같은 내용을 골자로 하는 「부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률(안)」을 입법예고 하고 관계부처 협의를 거쳐 올 정기국회에 제출키로 했다고 밝혔다.

영업비밀침해자에 대한 형사처벌강화 외에 이번 개정안의 주요 골자는 영업비밀 침해 및 부정경쟁행위에 대한 손해배상 청구소송을 용이하게 하기 위해 손해액의 추정규정 등을 신설하고 영업비밀유출 관련 범죄구성 요건의 적용범위를 생산기술 관련 영업비밀에서 기술상의 영업비밀로 확대하는 것 등이다.

이번 부정경쟁방지법 개정은 국내 기업의 기술수준이 향상되고 국제교류가 증대됨에 따라 핵심기술유출 등 영업비밀 침해행위가 급증하고 있는데다 특히 최근 반도체(D램) 제조기술의 대만유출사건 등 경쟁국으로의 첨단기술 유출사례가 늘어나고 있어 이에 효율적으로 대처하기 위한 것으로 풀이된다.

<이중배 기자>