일 반도체업계, 1GD램 양산체제 구축 박차

일본의 주요 반도체업체들이 1GD램의 개발에서 소자구조 등의 기본틀을 마련하고 이제는 양산기술의 확립에 주력하기 시작했다고 "일본경제신문"이 8일보도했다. 특히 각 업체는 공장에서의 양산에 필수불가결한 로광기술의 개발에 주력하고 있으며 오는 98년경에는 시제품의 생산에 착수할 방침이라고이신문은 전했다.

1GD램 양산에서 핵심이 되는 것은 노광기술의 확립으로 회로선폭이 미세화함에 따라 노광에는 파장이 짧은 빛이 필요하다.

이와 관련 후지쯔연구소는 단파장의 자외선에 의한 노광용 감광재료를 개발, 회로의 성형이 가능함을 확인했다. 미쓰비시전기는 1GD램 이후 시대를겨냥, 자외선보다 더 미세한 회로를 그릴 수 있는 X선을 이용한 노광기술을개발했다. 도시바는 2백56MD램용 자외선의 광원을 그대로 1GD램의 제조에 응용하는 방법을 연구중이다.

노광기술 개발과 함께 각 업체는 기판구경을 종래의 8인치 웨이퍼에서 12인치로 변경할 것도 계획하고 있다. 대구경이 되면 기판이 휘어지기 쉽고 노광의 위치설정이 어려워지기 때문에 이들 업체는 기판을 움직이지 않아도 되는기술개발에 주력하고 있다.

한편 1GD램 개발에서 기초는 소자의 구조인데 회로선폭은 2백56MD램의 0.25um보다 약 30% 좁은 0.18um이다. 또 메모리에는 축전기능을 지닌 콘덴서가필요한데 작은 면적에서도 충분한 축전용량을 확보하기 위해선 특별한 구조나 재료가 필요하다. 이와 관련 NEC와 미쓰비시는 실리콘기판상에 형성하는소자에 새로운 재료를 사용하고 도시바는 홈모양의 구조를 고안했다.

<신기성기자>