ETRI, 황화폴리스티렌 매개 고분자 연속굴절률 매질 창출성공

한국전자통신연구소(ETRI)는 황화폴리스티렌을 매개물질로 한 고분자 연속굴절률분포 GRIN Gradient Inde.) 매질 창출에 세계 최초로 성공、 광통신분야에 새로운 가능성을 열었다고 9일 밝혔다.

ETRI 기초기술연구부(책임연구원 이일항)가 창출에 성공한 GRIN 매질은 수용금속이온을 제거키 위해 이용하는 황화폴리스티렌을 매개물질로 한 것으로광섬유간의 접속、 광섬유와 광원과의 접속、 광픽업시스템 등 광섬유분야에 의 획기적인 기여가 기대된다.

ETRI는 또한 "GRIN 봉렌즈는 굴절률 분포조정을 통한 수차의 조절이 가능 광접속 손실을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 광의 입출력면이 편평、 기존렌즈보다 고정이 용이하다"고 말했다.

이일항책임연구원은 "이번에 찾아낸 새로운 GRIN 매개물질, 황화폴리스티 렌을 이용할 경우 봉형의 폴리스티렌을 황화(Sulphuration)시킴으로써 굴절 률분포 형성이 가능해 수차가 거의 없는 0.6mm이상의 새로운 GRIN렌즈의 제작이 가능해졌다"고 밝혔다.

ETRI는 이밖에도 봉형의 고분자를 중합시킬 수 있는 방법과 구형의 고분자 를연결시키는 방법등도 새로 찾아낸 것으로 알려졌다.

한편 ETRI는 이 연구결과를 세계적인 학술지인 "옵틱스 레터스(Optics Let ters) 1995、 20"지에 소개했으며 이달초 미샌프란시스코에서 열린 전기전자 공학회산하 레이저 및 광자광학회(IEEE LEOS)총회에서도 이를 발표했다.

<대전=김상용기자>