지너스, LG반도체에 이온 임플랜트 공급

반도체장비메이커인 지너스(Genus)사는 최근 LG반도체에 자사의 최신 이온임 플랜트시스템인 "1510 MeV 이온 임플랜터"<사진>를 공급했다고 17일 밝혔다. LG반도체의 청주공장에 설치될 이 제품은 회로선폭 0.35um의 D램 및 비메모 리반도체의 제작에 사용될 것으로 알려졌다.

지너스사는 이번 LG반도체에 대한 이온 임플랜터 공급으로 삼성전자.현대전 자를 포함, 국내메모리3사에 이 제품을 공급케됐으며 이를 계기로 국내사용 자에 대한 서비스를 확대해나갈 방침이라고 밝혔다.

지너스사가 이번에 공급하는 1510 이온임플랜터는 기존의 1500모델을 대체한 제품으로 빔 커런트와 기계적인 성능을 크게 개선하고 도스제어의 정확성을 높여 웨이퍼당 생산원가는 낮춘 반면 전반적인 수율을 개선한 점이 장점이라 고 지너스측은 밝혔다.

지난 82년 설립된 지너스사는 미캘리포니아주 서니베일에 본사를 두고 있는반도체장비업체로 CVD및 이온임플랜터를 전문적으로 제조, 판매해오고 있다.

<이경동기자>