그래핀랩이 반도체 노광 공정 핵심 부품인 '펠리클' 사업을 글로벌 시장으로 확대한다.
그래핀랩은 최근 중국 장쑤성 치둥시와 전략적 업무 협약(MOU)을 체결했다고 29일 밝혔다. 치둥시와 협력해 본격적으로 중국 시장에 진출하는 것이 골자다.
그래핀랩은 극자외선(EUV)용 펠리클을 개발하는 회사다. 반도체 노광 공정은 회로가 미리 그려진 포토마스크에 빛을 쏴 웨이퍼에 새기는 과정으로 진행된다. EUV 포토마스크는 한장에 1억원이 넘는 고가인만큼 오염으로부터 보호하고 제품 사용 주기를 늘리는 조치가 필요하다. EUV 펠리클이 이 역할을 담당한다.
그래핀랩은 2019년부터 그래핀 소재로 펠리클을 개발, 최근 90% 이상 투과율을 확보했다. 투과율은 펠리클 성능을 나타내는 지표로 높을수록 고성능이다. 또 지난해 EUV 펠리클 제조를 위한 생산 설비도 구축한 바 있다.
그래핀랩은 이번 치둥시와 협력으로 중국 사무소를 설립할 계획이다. 현지 사무소는 중국 시장 요구에 대응하는 연구개발(R&D) 거점으로 활용한다. 또 중국에서 그래핀 기반 펠리클 저변을 넓히는 시장 공략 기지 역할도 담당할 예정이다.
그래핀랩은 “그래핀랩 기술의 글로벌 확산은 물론, 성장 잠재력이 큰 중국 반도체 시장을 공략하기 위한 중요한 첫발을 내디뎠다”며 “미래 성장 동력 확보에 크게 기여할 것”이라고 밝혔다.
권동준 기자 djkwon@etnews.com
