그래핀랩이 그래핀 기술 기반의 투과율 88% 이상 극자외선(EUV) 펠리클(Pellicle)을 양산하는 기반 기술을 확보했다고 27일 밝혔다.
그래핀랩은 6월 실리콘 나이트라이드 두께를 정밀하게 식각하는 기술과 그래핀층 두께를 조절하는 기술 개발을 끝냈고, 자체 시뮬레이션 결과 91%를 선회했다. 추가로 실리콘 나이트라이드 식각 공정에서 두께 균일도(Uniformity)를 확보했으며, 화학적 및 건식·습식 등 복합 공정을 개발했다.
이달 19일 EUV 펠리클 관련 특허를 등록했으며, 관련 특허 출원 등록을 추가로 진행하고 있다. 회사 관계자는 지속 연구개발 결과로 외부기관 측정을 통해 EUV 펠리클 투과율 88% 이상을 달성했다고 밝혔다. 공정 개선과 연구개발(R&D)을 통해 개선된 제품 제작도 완료했다.
그래핀랩 윤종상 펠리클 TF팀장(부사장)은 “투과율 88% 이상 달성은 끊임없는 투자와 R&D 결과”라면서 “초기 단계에 설정한 EUV 펠리클 제조 로드맵을 기준으로 순항하고 있다. 공정 개선을 통해 조속히 양산성 있는 팰리클로 성과를 내겠다”고 밝혔다.
임중권기자 lim9181@etnews.com
