국내 기업이 그래핀 기반 극자외선(EUV) 노광 공정용 펠리클로 투과율 90% 이상 성과를 내 주목된다.
참그래핀이 국내 최대 나노 전시회 '나노코리아 2022'에서 EUV 펠리클 투과율 95.4%를 달성했다고 공개했다. 나노 두께로 줄인 그래핀 펠리클을 구현했다.
EUV 펠리클은 반도체에 회로 패턴을 새기는 노광 공정에 핵심 부품이다. 회로를 그릴 때 사용하는 포토마스크 손상을 최소화하는 박막 형태의 덮개다. 펠리클을 사용하면 마스크를 오염 물질로부터 보호, 고가의 마스크 생산 비용도 줄일 수 있다.
EUV 펠리클 투과율이 90% 이상 성과를 낸 것은 처음이다. 학계가 EUV 그래핀 펠리클로 87% 투과율을 기록한 연구 결과는 있지만 90% 넘는 성과를 낸 기업은 없다.
참그래핀은 황찬국 포항공대 박사와 가속기연구소에서 펠리클 측정값 결과물을 통해 펠리클 투과율 측정치를 90% 이상 끌어올렸다.
참그래핀은 수나노로 그래핀 두께를 줄이고, 수십층 쌓아 그래핀 펠리클을 풀사이즈로 구현할 계획이다. EUV 그래핀 펠리클은 기존 실리콘, 탄소나노튜브(CNT) 기반 펠리클보다 열적 안전성, 기계적 강도, 높은 투과율을 자랑한다고 설명했다.
김용기 참그래핀 대표는 “그래핀 펠리클 두께를 줄이는 동시에 투과율 저하의 근본적 원인을 해결하기 위해 다양한 분석, 해결 방법을 개발하고 있으며 이러한 노력의 결과로 획기적 투과도 향상의 성과를 낼수 있었다”며 “EUV 그래핀 펠리클 대면적화 기술을 통해 제품화에도 나설 계획”이라고 말했다.
참그래핀은 롤투롤 기반의 화학기상증착법(CVD) 방식을 이용해 그래핀을 대량 생산하는 기술을 확보했다. 2020년 참그래핀은 그래핀 제작 기술로 '대한민국 10대 나노기술'로 선정된 바 있다.
김지웅기자 jw0316@etnews.com
