특허청은 서울디자인재단과 공동으로 오는 30일 서울 동대문디자인플라자 나눔관에서 `2016 디자인 보호포럼-서울(부제 : Fit your Design right!)`을 개최한다.
포럼은 패션업계의 최근 모방 실태를 진단하고 대안을 모색하는 한편 패션업계의 글로벌 진출을 위해 패션디자이너가 숙지해야 할 지식재산권 정보를 소개하기 위해 마련됐다.
주요 내용은 △패션디자인의 모방 유형과 원인, 특징 등 실태 분석 △패션디자인의 효과적인 권리 확보 및 분쟁 대응 전략 △패션디자인 트렌드 변화에 따른 법적 이슈 △패션 디자인 보호에 관한 외국사례 및 대안적 제도 모색 등이다.
특허청은 추가로 광주디자인센터, 대구경북디자인센터 및 부산디자인센터와 공동으로 지역 순회포럼을 개최해 디자인 권리보호 인식을 지속 확산할 방침이다.
대전=신선미기자 smshin@etnews.com
