KLA텐코는 16나노(㎚) 이하 공정용 반도체 검사 장비 4종을 내놨다고 8일 밝혔다.
이번에 출시한 ‘D6 광대역 플라즈마 패턴 웨이퍼 결함 검사 장비’는 이전 제품보다 갑절의 빛을 활용, 심자외선(DUV) 파장 대역에서 업계 최소 광학 모드 사용이 가능하다. 핀펫(FinFET)처럼 복잡한 반도체 소자에서도 미세한 패턴 결함을 발견할 수 있고 공정 시간도 획기적으로 줄였다. ‘퓨마(Puma)5 레이저 스캐닝 패턴 웨이퍼 검사 장비’는 ADI(after-develop inspection)·PCM(photo-cell monitor)이나 전공정 식각 단계에서 수율에 영향을 주는 결함을 검출할 수 있게 했다. 기존 퓨마4보다 속도가 갑절 빠른 고속 모드도 지원한다.
‘Surfscan SP5 비패턴 웨이퍼 검사 장비’는 DUV 광학 기술을 적용, 기판의 미세 결함과 패턴이 형성되지 않은 부분을 검사할 수 있게 했다. 이전 제품보다 처리 속도를 3배 높였고 공정 단계가 늘어나도 사용 가능하다. ‘eDR-7110 전자빔 리뷰 시스템’은 S-ADC(SEM Automatic Defect Classification) 엔진을 탑재, 생산 과정에서 나온 결함 개수를 정확히 보여준다. S-ADC 결과에 따라 웨이퍼가 기계 안에 있는 동안 추가 테스트 등도 자동으로 실행된다.
김주연기자 pillar@etnews.com
