삼성전자는 중국 산시성 시안에 낸드플래시 후공정 처리를 위해 5억 달러 규모로 신규 투자한다고 12일 밝혔다.
후공정 라인은 내년 말 완공을 목표로 내년 1월 착공에 들어간다. 위치는 현재 건설 중인 반도체 공장 인근이다. 이번 투자로 삼성전자 시안 반도체 공장 총 설비 투자액은 75억 달러로 늘어난다.
삼성전자는 내년 가동을 목표로 70억달러를 투자해 시안에 10나노미터급 낸드플래시 공장을 짓고 있다. 현지 우수 인력을 채용하기 위해 시안 고신구에 4227㎡ 규모의 연구개발(R&D) 센터도 설립했다.
이 날 행사에는 권오현 삼성전자 부회장과 러우친젠 산시성장, 동쥔 서안시장 등 중국 고위 당국자들이 참석했다. 삼성전자가 중국에서 운영 중인 R&D센터는 모두 8곳으로 늘었다.
한편 중국삼성은 서안 반도체 공장 기공식 1주년을 기념해 산시성과 성내 사회공헌활동(CSR)을 공동 추진하고 `CSR 시범구`를 구축하는 협약을 맺었다
이형수기자 goldlion2@etnews.com
