국내 반도체 포토레지스트 출하량은 정체를 겪지만 미세화 공정이 진행 되면서 매출 규모는 성장세를 지속할 것으로 예측된다.
시장조사업체 IHS디스플레이뱅크는 최근 보고서에서 반도체 포토레지스트 시장이 극자외선(EUV) 장비가 도입 되는 2014년 이후 연평균 성장률 5%를 기록할 것으로 전망했다.
포토 레지스트는 반도체·LCD 등 노광 공정이 필요한 분야에서 주로 쓰이는 핵심 소재다.
지난해 한국 반도체 포토레지스트 시장은 2억4000만달러로 추산된다. 반도체 가동률이 떨어지면서 지난 2011년보다 소폭 줄었고 올해 역시 시스템 반도체 가동률이 하락하면서 포토레지스트 시장도 다소 축소될 것으로 보인다. 하지만 EUV 장비가 도입되고 10나노미터(nm) 이하 미세 공정 양산이 본격화하는 2014년부터는 5% 이상 성장률이 예상된다.
반도체 미세화 공정 기술에서 앞선 한국 시장은 포토레지스트 업계의 각축장이다. JSR, TOK, 다우케미칼, 시네츠, 스미토모화학, AZEM 등 상위권 기업이 모두 진출해 경쟁을 펼치고 있다.
오은지기자 onz@etnews.com