한·미 특허심사 하이웨이, 내년 1월부터 시행

　내년부터는 미국 특허 출원이 더욱 편리해지고, 심사결과도 더 신속히 받을 수 있게 될 전망이다.

　특허청은 한·미 양국 공통 특허 출원시 한 쪽 국가에서 긍정적인 심사결과가 나오면 다른 나라에는 해당 특허출원을 우선적으로 심사해 특허를 조속히 부여하는 ‘한·미 특허심사하이웨이’를 내년 1월부터 시범 시행키로 미국 특허청과 합의했다고 9일 밝혔다.

　이 제도가 시행되면 미국에서는 평균 23개월 걸려야 심사를 받던 것을 9개월만에 심사받을 수 있으며, 우리나라도 기존 9.8개월에서 3개월로 심사처리 기간을 7개월 가까이 단축할 수 있게 된다.

　한편, 특허청은 지난 4월부터 일본과 특허심사 하이웨이를 전면 시행, 심사적체 물량해소 및 심사처리 기간 단축 효과를 거두고 있다. 대전=신선미기자@전자신문, smshin@