세계 최대 반도체 공정용 리소그래피 장비 제조업체인 네덜란드 ASML이 벨트호벤 본사의 클린룸 확장 공사를 시작했다.
전 세계 상위 20대 반도체 기업 중 16개 업체를 주요 고객사로 확보하고 있는 ASML은 이들 고객사의 기술적인 요구 증가와 새로운 장비 연구 개발을 위해 2008년 2분기까지 새로운 클린룸 공장을 완공할 계획이라고 밝혔다.
연구개발용과 업무용 두 블록을 포함한 새로운 클린룸 공장은 현재의 2만5000만㎡ 연구·제조용 클린룸에 6000㎡를 더한 것으로 24% 정도의 생산 능력을 확장한 것이다.
ASML은 또한 올해도 리소그래피 장비 세계 시장 점유율을 확대하기 위해 장비 투자에 1억5000만 유로를 추가로 투자해 연간 총 투자 규모를 약 2억5000만유로로 늘릴 계획이라고 밝혔다.
ASML의 에릭 모리스 CEO는 “2006년 35억9700만유로 순매출을 달성한 데 이어 2007년 1분기 동안 53% 판매 증가율을 볼 때 올해도 고성장세가 예상된다”며 “반도체 업체들은 반도체 고집적화와 저비용을 위해 보다 뛰어난 제조장비를 찾고 있는 추세로 볼 때 투자 대비 생산성이 높은 ASML의 리소그래피 장비 시장 점유율은 계속 확대될 것”이라고 말했다.
ASML은 또한 최신 리소그래피 장비인 트윈스캔 XT 1900i를 올 3분기부터 고객사에 공급할 것이라고 밝혔다. 이 트윈스캔은 40나노 공정을 적용해 칩 고집적화를 실현, 현재 사용중인 칩 제조 생산력을 12.5% 향상시킨다.
XT 1900i는 렌즈와 웨이퍼 사이에 물과 같은 액체를 투과해 해상도를 높이고 칩의 고집적화를 향상시키는 액침방식을 이용한 제5세대 리소그래피 장비다.
이번에 새로 건설 예정인 클린룸은 ASML이 차세대 반도체 리소그래피 장비로 주력하고 있는 더블 패턴 기술(DPT)과 EUV(Extreme Ultra Violet) 장비의 연구개발과 제조를 가속화 하기 위해 이용될 예정이다. EUV는 액침 리소그래피 장비에 이어 새로운 광원을 사용하는 차세대 장비다.
현재 ASML는 작년 12월 EUV 장비를 알파 데모툴로 네덜란드 아이맥과 미국 뉴욕 알바니 소재 나노기술 연구소에 각각 1대씩 공급된 상태이며 이미 주요 반도체 업체에서 3대의 주문을 받았으며 2009년에 공급될 예정이다.
벨트호벤(네달란드)=김현민기자@전자신문, hmkim@
