[신기술 거래장터]나노임프린트 리소그래피 공정기술

　(사진설명 : 다중 패턴 스탬프를 사용한 스텝-엔-리피트 자외선 나노임프린트 공정에 의해 임프린트된 8인치 웨이퍼 상의 나노구조물(80nm선과 30nm간격 패턴))

　

　50㎚급 나노패터닝이 가능한 자외선 나노임프린트 공정과 이에 필요한 공정장비기술이다. 대기압 상에서 대면적(5인치 이상 크기) 스탬프를 사용해 자외선 나노임프린트 공정이 가능하다는 것이 특징.

　진공 장치가 필요 없어 단가를 낮출 수 있으며 다층 정렬 작업에 용이한 다중 패턴 스탬프(EPS·Elementwise Patterned Stamp)를 사용하는 ‘싱글스텝(Single-step)’과 8인치 웨이퍼 공정 기준으로 10배 이상의 생산성 향상이 가능한 ‘스텝-앤드-리피트(Step-and-Repeat)’로 나눠진다. 기존의 평평한 스탬프와 달리 스탬프 표면에 공기 배출이 가능한 채널이 각 소자 사이에 분포해 있는 다중 패턴 스탬프를 이용, 대기 분위기에서 대면적 임프린트를 가능하게 만든다.

◆기술보유자 경남소재 연구소

희망거래 유형 기술매매 및 라이선싱

응용분야 나노기술 응용 메모리, 차세대 디스플레이, 나노바이오 제작공정 및 장비개발에 활용 가능

연락처 부산테크노파크 기술사업화팀(051-320-3631)