한국전기연구원 최영욱 박사, 대면적 PDP용 산화마그네슘 박막제조기술개발

42인치 이상 대면적 PDP용 산화마그네슘 박막제조장치 및 공정기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.

한국전기연구원 산업전기연구단 전기물리연구그룹의 최영욱 박사팀은 스퍼터링 방법을 이용해 대면적 PDP에 적용 가능한 산화마그네슘 박막 제조장치 및 공정기술을 개발했다고 15일 밝혔다.

그동안 PDP용 산화마그네슘 박막 스퍼터링 시스템의 경우 국내 PDP 제조장비 기반기술이 취약해 전량 수입에 의존해 왔었다.

산업기술연구회 정책연구사업인 PDP핵심기반기술 개발사업을 통해 개발된 이번 기술은 타깃표면이 산화, 성막속도(박막의 증착에 걸리는 시간)가 느린 플라스마 공정의 산화영역에서 속도를 올리기 위해 새로운 전원장치를 개발한 것이 핵심이다. 그 결과 최 박사팀은 성막속도를 기존의 분당 30nm/min에서 50nm/min으로 66% 가량 끌어올리는 데 성공했다.

특히 이번 기술은 PDP 뿐만 아니라 LCD 등 대면적 디스플레이의 코팅용 장비로도 활용이 가능해 활용성이 큰 것으로 평가받고 있다.

최 박사팀은 이번 기술에 대한 국내특허를 등록했고, PDP 장비업체인 아이시스에 기술을 이전해 상용화를 준비하고 있다. 한편, 이번 기술은 최근 성막기술 관련 미국의 논문지인 ‘Thin Solid Films’지에 게재됐으며, 미국에도 특허를 출원한 상태이다.

부산=정재훈기자@전자신문, jhoon@